高级搜索

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

量子Heisenberg薄膜磁性的解析研究

上一篇

下一篇

阎玉立,杨晓莉,陈洪. 量子Heisenberg薄膜磁性的解析研究[J]. 西南师范大学学报(自然科学版), 2003, 28(3).
引用本文: 阎玉立,杨晓莉,陈洪. 量子Heisenberg薄膜磁性的解析研究[J]. 西南师范大学学报(自然科学版), 2003, 28(3).
shu
Analytical Study of Magnetism in Quantum Heisenberg Film[J]. Journal of Southwest China Normal University(Natural Science Edition), 2003, 28(3).
Citation: Analytical Study of Magnetism in Quantum Heisenberg Film[J]. Journal of Southwest China Normal University(Natural Science Edition), 2003, 28(3).
shu

量子Heisenberg薄膜磁性的解析研究

  • 西南师范大学,物理系,重庆,400715,涪陵师范学院,物理系,重庆,涪陵,408003

Analytical Study of Magnetism in Quantum Heisenberg Film

  • 摘要: 采用变分累计展开方法,计算量子Heisenberg薄膜的自发磁化强度到了三级累积展开.结果表明:自发磁化强度依赖于薄膜的层数,在某一临界厚度以下,自发磁化强度随薄膜原子层数的减小而迅速减小.
  • 加载中
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  277
  • HTML全文浏览数:  142
  • PDF下载数:  0
  • 施引文献:  0
出版历程

量子Heisenberg薄膜磁性的解析研究

  • 西南师范大学,物理系,重庆,400715,涪陵师范学院,物理系,重庆,涪陵,408003

摘要: 采用变分累计展开方法,计算量子Heisenberg薄膜的自发磁化强度到了三级累积展开.结果表明:自发磁化强度依赖于薄膜的层数,在某一临界厚度以下,自发磁化强度随薄膜原子层数的减小而迅速减小.

English Abstract

    全文HTML

参考文献 (0)

目录

版权所有：西南师范大学学报(自然科学版)

地址：重庆市北碚区西南大学 电话：023-68252540，68254576，68254478 电子邮箱：xbbjb@swu.edu.cn

本系统由北京仁和汇智信息技术有限公司开发

/

返回文章
返回