稳态荧光法研究Tween80/SolutolHS15体系的临界胶束浓度
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摘要: 目的:以芘为荧光探针研究Tween80/SolutolHS15混合胶束体系的临界胶束浓度以及影响临界胶束浓度的因素.方法:通过对Tween80/SolutolHS15体系稳态荧光光谱研究,绘制出I1/I3-C曲线,得出CMC值;通过不同质量比Tween80/SolutolHS15体系的CMC值研究,以及NaCl、乙醇、温度等因素对该体系CMC值的影响研究,优化Tween80/SolutolHS15体系的质量比并考察其影响因素.结果:SolutolHS15的CMC值较Tween80的低;Tween80与SolutolHS15质量比为1∶2时,CMC值最小,为3.1311×10-6g/mL;SolutolHS15疏水内核的极性最低,Tween80最高,Tween80/SolutolHS15质量比为1∶2时的疏水内核的极性介于两者之间;NaCl、乙醇浓度的增大及温度的升高均会导致CMC值增大,但胶束形成前NaCl浓度增加和温度升高会降低芘增溶位点极性.结论:Tween80/SolutolHS15体系质量比为1∶2时具有协同增溶作用,NaCl、乙醇及温度对该体系CMC值均有显著影响.
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关键词:
- 混合胶束 /
- 临界胶束浓度 /
- SolutolHS15 /
- 吐温80 /
- 荧光探针
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