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电沉积咖啡酸玻碳修饰电极对抗坏血酸的催化氧化

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电沉积咖啡酸玻碳修饰电极对抗坏血酸的催化氧化[J]. 西南师范大学学报(自然科学版), 2005, 30(5).
引用本文: 电沉积咖啡酸玻碳修饰电极对抗坏血酸的催化氧化[J]. 西南师范大学学报(自然科学版), 2005, 30(5).
Electrocatalytic Oxidation of AA at GCE Modified by Electrodeposited Films of Caffeic Acid[J]. Journal of Southwest China Normal University(Natural Science Edition), 2005, 30(5).
Citation: Electrocatalytic Oxidation of AA at GCE Modified by Electrodeposited Films of Caffeic Acid[J]. Journal of Southwest China Normal University(Natural Science Edition), 2005, 30(5).

电沉积咖啡酸玻碳修饰电极对抗坏血酸的催化氧化

Electrocatalytic Oxidation of AA at GCE Modified by Electrodeposited Films of Caffeic Acid

  • 摘要: 在pH=7.0的磷酸缓冲溶液中采用电沉积技术将咖啡酸修饰于玻碳电极表面制备了一层稳定的薄膜,该修饰电极制备简单,稳定性良好.用循环伏安法研究了抗坏血酸在修饰电极上的电化学行为,其氧化峰电流与抗坏血酸的浓度和pH值有关,当pH值达到7.7时,抗坏血酸在修饰电极上的氧化峰电流最大,氧化峰电流与抗坏血酸浓度在4.0×10-5~2.0×10-2mol/L范围成良好的线性关系,检测限为1.0×10-5mol/L,方法简单、快速、准确,可应用于抗坏血酸药片的检测.
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出版历程

电沉积咖啡酸玻碳修饰电极对抗坏血酸的催化氧化

摘要: 在pH=7.0的磷酸缓冲溶液中采用电沉积技术将咖啡酸修饰于玻碳电极表面制备了一层稳定的薄膜,该修饰电极制备简单,稳定性良好.用循环伏安法研究了抗坏血酸在修饰电极上的电化学行为,其氧化峰电流与抗坏血酸的浓度和pH值有关,当pH值达到7.7时,抗坏血酸在修饰电极上的氧化峰电流最大,氧化峰电流与抗坏血酸浓度在4.0×10-5~2.0×10-2mol/L范围成良好的线性关系,检测限为1.0×10-5mol/L,方法简单、快速、准确,可应用于抗坏血酸药片的检测.

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