金刚石膜微结构分析

刘存业,王跃,陈建勇

西南师范大学学报(自然科学版)

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
	姓名不能为空！
邮箱
	邮箱不能为空！非法的邮箱地址。
手机号码
	电话不能为空！请输入有效手机号!
标题
	标题不能为空！
留言内容
	内容不能为空！
验证码
	验证码不能为空！验证码错误！

金刚石膜微结构分析

刘存业,王跃,陈建勇. 金刚石膜微结构分析[J]. 西南师范大学学报(自然科学版), 2003, 28(2).

引用本文:

刘存业,王跃,陈建勇. 金刚石膜微结构分析[J]. 西南师范大学学报(自然科学版), 2003, 28(2).

Microstructural Studies of the Diamond Films[J]. Journal of Southwest China Normal University(Natural Science Edition), 2003, 28(2).

Citation:

Microstructural Studies of the Diamond Films[J]. Journal of Southwest China Normal University(Natural Science Edition), 2003, 28(2).

金刚石膜微结构分析

刘存业,王跃,陈建勇

西南师范大学,物理学系,重庆,400715;西南师范大学,现代物理研究所,重庆,400715,西南师范大学,物理学系,重庆,400715

Microstructural Studies of the Diamond Films

摘要: 对在Si(100)基底上利用化学汽相沉积(CVD)法制备的金刚石膜, 采用X-射线衍射(XRD)技术和正电子湮没谱学(PAS)原理进行了有关物相成分和微结构的测量分析. 研究发现, 在金刚石膜中微观缺陷的产生取决于薄膜生长过程的控制和基底表面局域生长环境的条件差异. 结果表明, 金刚石膜体和表面的结晶、微晶和非晶结构与正电子谱分析的3种正电子态相符合.
- 金刚石膜,X-射线衍射,正电子湮没谱

计量

文章访问数: 460
HTML全文浏览数: 285
PDF下载数: 0
施引文献: 0

金刚石膜微结构分析

刘存业,王跃,陈建勇

西南师范大学,物理学系,重庆,400715;西南师范大学,现代物理研究所,重庆,400715,西南师范大学,物理学系,重庆,400715

关键词:

金刚石膜,X-射线衍射,正电子湮没谱

摘要: 对在Si(100)基底上利用化学汽相沉积(CVD)法制备的金刚石膜, 采用X-射线衍射(XRD)技术和正电子湮没谱学(PAS)原理进行了有关物相成分和微结构的测量分析. 研究发现, 在金刚石膜中微观缺陷的产生取决于薄膜生长过程的控制和基底表面局域生长环境的条件差异. 结果表明, 金刚石膜体和表面的结晶、微晶和非晶结构与正电子谱分析的3种正电子态相符合.